深圳某半导体存储芯片存储芯片生制造产商，晶圆工作过程中 中制造含硅、氟的层次性废污水，设置治理占比1200吨/日。废污水部分复杂化，含有nm级硅粒子及氢氧化钠，传统性治理步骤难于标准。 废液成分表及来源于 重点废弃物物 ：氢氧化铁硅（100-500nm孔径）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 渠道程序 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP物理机打磨抛光废气（40%）、的设备冲洗器水（15%） 除理方法注意事项 自主创新应用"生物学沉淀自己+特总膜分离法"系统自驾路线： 钙盐发展 ：加药系统氯化钙快速清理氟铝离子（提取CaF2凝固） 二沉池响应 ：和好斜板沉淀池剂体现橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜挪用微细颗粒物 反渗透装置法模式 ：脱盐率>98%，二手回提取率75% 多效蒸发析出 ：浓水段确保氟化物零的排放 终究疗效 氟化物溶度：<8mg/L（底于地方1阶段规范10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水状况量使用率：70%适用水方形冷却塔皮肤补水 危废处理回收利用：蒸馏食物残渣量较传统与现代工艺设备缩减60%