该晶圆制做厂座落华北区县，重要生產8屏幕尺寸半导体技术晶圆，平均污废水 进行排放出量约800吨。因为生產工作中选用多氢氧化钠确定晶圆蚀刻，会导致污废水 中氟化物有机废气浓度达200-300mg/L，远超发达国家进行排放出标准（10mg/L一下）。 废水处理方法含量及渠道 废污水重要来6个流程： 晶圆蚀刻生产工艺 ：含高质量浓度氟化物（HF）、盐酸及一少部分天价属 催化厂家镜面抛光（CMP）废水处理工艺 ：含纳米级级硅顆粒、巧妙络合剂 机冲洗废气 ：含异丙醇、氟化物等有机会物 工作工艺操作流程操作流程 采取"耐腐蚀滤渣+混疑滤渣+高度净化"四级解决软件系统： 4级治理 ：加药氯化钙和氢氧化物钙，生成氟化钙石雕文化沉淀，氟化物清理率达85% 五级整理 ：插入PAC（汇聚氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），清理氢氧化铁态严重空气污染物 四级正确处理 ：使用多物质过滤系统器和活力炭离心分离，出水量氟化物氧化还原电位增强在8mg/L一下 最为关键的机器设备是指：pH系统软件自动改善系统软件、斜管滤渣池、板框过滤机（活性污泥脱水怎么办）。 决定性成效 的项目正常运作几年监测统计数据统计数据显示信息： 氟化物大概盐浓度：7.2mg/L（高于中国规格） COD清除率：92% 厌氧颗粒污泥含水分率：≤65% 年的回收用氟化钙副设备约150吨，确保产品化用